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最后更新：2025-03-27
關(guān) 注 度：31
生產(chǎn)企業(yè)：成都超邁光電科技有限公司
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產(chǎn)品詳細(xì)介紹本設(shè)備主要用于半導(dǎo)體刻蝕，能夠兼容離子束刻蝕和反應(yīng)離子刻蝕功能，使用氣態(tài)化學(xué)刻蝕劑與材料產(chǎn)生反應(yīng)來進(jìn)行刻蝕，并形成可從襯底上移除的揮發(fā)性副產(chǎn)品，通過真空系統(tǒng)排出，特別適合刻蝕熔融石英、硅、光刻膠、聚酷亞胺( PI) 薄膜、金屬等材料。
刻蝕設(shè)備在半導(dǎo)體行業(yè)中占據(jù)著至關(guān)重要的地位，可以實(shí)現(xiàn)納米級(jí)的精密刻蝕。對(duì)復(fù)雜微結(jié)構(gòu)的器件加工，微電子器件的制造提供重要支持，在芯片領(lǐng)域發(fā)揮著關(guān)鍵作用。 |
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| 會(huì)員級(jí)別：免費(fèi)會(huì)員 |
| 加入時(shí)間：2024-03-11
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